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溅镀机由真空室,排气系统,溅射源和操控系统构成

2019-10-14 21:24:27

溅镀机由真空室,排气系统,溅射源和操控系统构成。溅射源又分为电源和溅射枪(sputter gun) 磁控溅射枪分为平面型和圆柱型,其间平面型分为矩型和圆型,靶资料利用率30- 40%,圆柱型靶资料利用率>50% 溅射电源分为:直流(DC)、射频(RF)、脉冲(pulse), 直流:800-1000V(Max)导体用,须可灾弧。

射频:13.56MHZ,非导体用。脉冲:泛用,最新发展出 溅镀时须操控参数有溅射电流,电压或功率,以及溅镀压力(5×10-1—1.0Pa),若各参数皆安稳,膜厚能够镀膜时刻估量出来。靶材的挑选与处理十分重要,纯度要佳,质地均匀,没有气泡、缺点,外表应平坦光亮。关于直接冷却靶,须留意其在溅射后靶材变薄,有也许决裂特别是非金属靶。一般靶材最薄处不行小于原靶厚之一半或5mm。遵化市超越钛金设备有限公司专业生产销售真空镀膜设备、钛金设备、离子镀膜机等产品。欢迎大家来电咨询。本文章来源http://www.china-chaoyue.com

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