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​真空镀膜设备的主要分类你知道吗?

2019-10-5 20:21:16

真空镀膜设备的主要分类主要分类有两个大种类: 蒸发沉积镀膜和溅射沉积镀膜,具体则包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,溶胶凝胶法等等 。 一、对于蒸发镀膜:一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。厚度均匀性主要取决于:1。基片材料与靶材的晶格匹配程度2、基片表面温度3. 蒸发功率,速率4. 真空度5. 镀膜时间,厚度大小。二、组分均匀性:蒸发镀膜组分均匀性不是很容易保证,具体可以调控的因素同上,但是由于原理所限,对于非单一组分镀膜,蒸发镀膜的组分均匀性不好。晶向均匀性:1。晶格匹配度 2。 基片温度 3。蒸发速率 溅射镀膜又分为很多种,总体看,与蒸发镀膜的不同点在于溅射速率将成为主要参数之一。溅射镀膜中的激光溅射镀膜pld,组分均匀性容易保持,而原子尺度的厚度均匀性相对较差(因为是脉冲溅射),晶向(外沿)生长的控制也比较一般。遵化市超越钛金设备有限公司专业生产销售真空镀膜设备、钛金设备、离子镀膜机等产品。欢迎大家来电咨询。本文章来源http://www.china-chaoyue.com

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